2021年7月，江蘇南大光電材料股份有限公司在官網(wǎng)發(fā)布最新消息，消息稱其公司旗下生產(chǎn)的ArF光刻膠獲得了國(guó)外客戶的一批訂單，能夠在光刻膠領(lǐng)域獲得國(guó)外訂單，足以說(shuō)明其產(chǎn)品已經(jīng)達(dá)到國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)。

首先科普一下光刻膠是什么。光刻膠是指在光刻前涂在硅晶圓上的材料，它是制作芯片過(guò)程中的重要材料，按照工藝水平可以分為g線、i線、KrF、ArF、EUV合計(jì)5種類型。

而ArF光刻膠一般用于130nm-14nm，最多可以用于7nm DUV工藝。而在ArF光刻膠的市場(chǎng)，國(guó)內(nèi)ArF的自給率僅為5%左右，這個(gè)領(lǐng)域同樣被日本和美國(guó)所壟斷，而此次國(guó)內(nèi)ArF光刻膠的突破意味著中國(guó)在ArF光刻膠領(lǐng)域正式擺脫了美日的鉗制。

芯片領(lǐng)域我們?nèi)匀宦浜?，但沒(méi)有什么是一定的。此次南大光電在光刻膠市場(chǎng)上的突破，可以說(shuō)是為中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展奠定了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)，就這樣一步步的走下去，中國(guó)也必將突破芯片領(lǐng)域的技術(shù)封鎖。